微弧氧化工艺流程

微弧氧化工艺流程

微弧氧化技术是直接在有色金属表面原位生成陶瓷层的新技术。微弧氧化技术工艺简单，对环境污染小，具备很大的优越性，它制备的膜层特点鲜明，膜层与基体金属属于冶金结合，结合牢固，在制备涂层方面具有明显优势，微弧氧化技术已被广泛应用于al、ti和mg等金属行业，是一种很有前景的表面处理工艺。

这种工艺的流程是：

1、预处理

预处理的原因是由于铝、铁等合金长时间放置在空气中，表面易发生氧化，生成一层几个微米的钝化膜，同时，其表面又极易吸附周围环境中的杂质，形成表面吸附层。为保证微弧氧化后制得陶瓷膜的综合力学性能，在微弧氧化处理前要对试样表面进行预处理。

2、微弧氧化过程

在微弧氧化处理过程中，待氧化试样与电源正极相连，作为阳极浸入电解液之中，不锈钢电解槽作为阴极与电源负极相连。在开通电源后，正脉冲电压快速升高，电流迅速下降，作为阳极的待氧化试样开始进行阳极氧化,产生大量微小气泡,同时在试样表面形成了一层钝化膜。当外加脉冲电压超过一定值时，材料表面出现一层极其细微均匀的放电火花，这种微区火花放电现象在试样表面不同位置出现，在待氧化合金表面原位生长陶瓷膜层，以达到强化材料表面的目的。

3、膜层性能检测仪器

膜层的性能检测包含三部分院厚度表征、硬度表征、形貌表征、相成分表征和表面粗糖度表征等。采用德祸流测厚仪对氧化陶瓷膜的厚度进行检测；采用利用显微硬度仪测量膜层表面显微硬度曰利用环境扫描电子显微镜对微弧氧化陶瓷膜的表面、截面形貌以及微观结构进行观察。利用x射线衍射仪(x-raydiffiaction，xrd)仪对微弧氧化陶瓷膜进行物相分析；利用精密表面粗糖度仪(jb-4c)测量氧化陶瓷膜的表面粗糙度。