微弧氧化的产品性能

微弧氧化的产品性能

氧化层厚度：5μm~60μm(根据需要可以调整厚度)

结合力：剪切强度≥30MPa，拉伸强度≥70MPa

硬度：HV500~1500(根据需要可以调整硬度)

耐磨性：磨损率为4.9×10-7mm3/N·m(以碳化硅为摩擦副)

耐腐蚀性：盐雾试验300h以上，无明显腐蚀

耐高温：1300℃热冲击，5秒5次，氧化膜不脱落

微弧氧化氧化层生长速度：30~100μm/h

摩擦系数：约0.18(干摩擦)

微弧氧化过程中，具有电晕、火花、微弧、弧等多种放电形式。外加电压大于约100V时，电压从普通阳极氧化法拉第区进进高压放电区，氧化膜开始被击穿。当电压大于700～800V时，进进弧放电区，样品表面出现较大的弧点，并伴随着尖锐的爆叫声，它们会在膜表面形成一些小坑，破坏膜的性能，因此，工作电压要控制在微弧放电区以下，使之不进进弧放电区。微弧氧化技术是一种环保型的表面强化处理技术，微弧氧化非常适合对铝、镁、钛及其合金表面进行改性。利用微弧氧化弧光放电增强并激活在工件阳极上发生的微等离子体氧化反应，从而在以铝、钛、镁等金属及其合金为材料的工件表面原位生成的强化陶瓷膜。