微弧氧化处理是一种在有色金属表面原位生长氧化物陶瓷的新技术。采用微弧氧化技术对镁及其合金材料进行表面陶瓷化处理,具有工艺过程简单,占地面积小,工艺处理能力强,生产效率高,适用于批量工业化生产等优点。微弧氧化电解液不含有毒物质和重金属元素,电解液(环保型)抗污染能力强和重复使用率高,因而对环境污染小,满足环保、清洁生产的需要;通过改变工艺参数获取具有不同特性的氧化膜层,以满足不同用途的需要;也可通过改变或调节电解液的成分使膜层具有某种特性或呈现不同颜色;还可采用不同的电解液对同一工件进行多次微弧氧化处理,以获取具有多层不同性质的陶瓷氧化膜层。
微弧氧化的产品性能
氧化层厚度:5μm~60μm(根据需要可以调整厚度)
结合力:剪切强度≥30MPa,拉伸强度≥70MPa
硬度:HV500~1500(根据需要可以调整硬度)
耐磨性:磨损率为4.9×10-7mm3/N·m(以碳化硅为摩擦副)
耐腐蚀性:盐雾试验300h以上,无明显腐蚀
耐高温:1300℃热冲击,5秒5次,氧化膜不脱落
微弧氧化氧化层生长速度:30~100μm/h
摩擦系数:约0.18(干摩擦)